东芝内存公司(Toshiba)宣布,公司已开发出全球首款采用硅穿孔(TSV)技术的BiCS FLASH三维(3D)闪存,该产品采用每单元三位(三阶储存单元,TLC)技术。用于开发目的的原型机已于6月开始出货。
东芝内存公司(Toshiba)宣布,公司已开发出全球首款采用硅穿孔(TSV)技术的BiCS FLASH三维(3D)闪存,该产品采用每单元三位(三阶储存单元,TLC)技术。用于开发目的的原型机已于6月开始出货。
采用TSV技术制造的器件具有垂直电极和贯穿硅芯片模的通孔以提供连接,这种结构在降低功耗的同时,可实现高速数据输入和输出。其实际性能在之前推出东芝二维NAND闪存时已得到验证。
结合48层3D闪存制程和TSV技术,使东芝内存公司能够成功增加产品程序设计带宽,同时获致低功耗。单一封装的功率效率是采用引线接合技术制造的同一代BiCS FLASH闪存功率效率的近两倍。TSV BiCS FLASH还在单一封装内实现了具有16颗粒堆栈式结构的1TB存储设备。
东芝内存公司将推动采用TSV技术的BiCS FLASH的商业化,为包括高阶企业级SSD在内的储存应用提供理想的低延迟、高带宽和高IOPS/watt解决方案。
免责声明:本站所使用的字体和图片文字等素材部分来源于互联网共享平台。如使用任何字体和图片文字有冒犯其版权所有方的,皆为无意。如您是字体厂商、图片文字厂商等版权方,且不允许本站使用您的字体和图片文字等素材,请联系我们,本站核实后将立即删除!任何版权方从未通知联系本站管理者停止使用,并索要赔偿或上诉法院的,均视为新型网络碰瓷及敲诈勒索,将不予任何的法律和经济赔偿!敬请谅解!